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随着国家政策支持和下游市场的发展，CMP抛光液国产化进程加快

文章来源： OFweek新材料网更新时间：2021-07-06 14:26:14

CMP抛光液为均匀分散的乳白色胶体，原料主要包括研磨颗粒、PH调节剂、氧化剂和分散剂等，通常起到研磨、腐蚀溶解等作用。

CMP即化学机械抛光，是半导体制造过程中的关键流程之一。CMP抛光材料种类较多，主要包括抛光液、抛光垫、调节器、清洁剂等产品，其中抛光液为CMP抛光材料主要组成部分，市场占比达到50％左右。目前CMP抛光液主要应用在LED、半导体等领域，近年来，随着我国电子产业的快速发展，CMP抛光材料逐渐实现国产替代，CMP抛光液市场发展速度加快。

CMP抛光液为均匀分散的乳白色胶体，原料主要包括研磨颗粒、PH调节剂、氧化剂和分散剂等，通常起到研磨、腐蚀溶解等作用。CMP抛光液行业存在一定的技术、专利、资金壁垒，行业准进入门槛较高。受技术、研发实力等因素限制，全球CMP抛光液市场集中度较高，主要集中在美国、日本、韩国等国家，相关企业包括卡博特微电子、陶氏化学、Versum、杜邦、富士美、韩国ACE等企业。

根据新思界产业研究中心发布的《2021－2025年CMP抛光液标杆企业及竞争对手专项调研报告》显示，近年来，随着半导体材料快速发展，全球CMP抛光液市场呈现出多元化的发展趋势，为我国CMP抛光液企业带来一定的发展机遇。现阶段，我国CMP抛光液已初步实现国产替代，行业内也涌现出一批具有一定优势的优秀企业，例如安集微电子、上海新阳、深圳力合、上海新安纳等企业。在企业研发实力增强、市场需求不断释放以及国家政策支持的背景下，我国CMP抛光液市场发展速度加快，其增速高于全球CMP抛光液市场增长平均水平。

伴随下游市场快速发展，CMP抛光液市场需求逐渐升级，专用化、定制化以及高端化将成为CMP抛光液市场未来发展方向。CMP抛光液市场专用化、定制化发展将带给国产企业更多机遇，一方面，国产CMP抛光液企业可以凭借本土化优势，与国内晶圆制造商展开深度合作，研发专用化、定制化产品；另一方面，国产CMP抛光液企业可集中资源专注于研发某一特定应用领域的CMP抛光液，并以此为突破口进入市场。

新思界行业分析人士表示，近年来，受半导体、LED产业发展的带动，全球及我国CMP抛光液市场需求持续攀升，行业发展速度加快。CMP抛光液行业进入门槛较高，全球CMP抛光液市场较为集中，其中国外企业占据市场主要地位。在国家政策支持、企业研发实力增强的背景下，我国CMP抛光液国产化进程加快，行业发展将不断向专用化、定制化方向升级。

新思界产业研究院新思界致力做最好的产业研究平台，建立了以市场调查、行业研究、规划咨询等为核心的国内业务体系，以海外市场调查、海外公司选址与注册等为核心的海外业务体系为客户提供全方位的国内外产业咨询服务。

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